|
109 зависимостями Н0](ви ) и Н02(вн ) при различных углах #/7, наблюдаемые нерегулярности зависимостей (Но—Нп)(0н) проявлялись по разному. Наиболее ярко выраженной особенностью зависимости (770 — //л)(^7/) сопровождался переход одного из слоев закрепления из состояния реактивной среды в дисперсивную, при котором другой слой закрепления уже находился в состоянии дисперсивпой среды (рис. 3.3.3). Сравнивая зависимости //0 — IIп для образцов с различными наборами магнитных параметров слоев, можно отмстить, что особенность на этих зависимостях проявляется наиболее ярко для образцов с меньшим параметром затухания а в слоях закрепления. Это связано с меньшим значением ширины линии в слое закрепления, а следовательно меньшим интервалом полей, в которых происходит переход слоя закрепления из состояния реактивной среды в дисперсивную. Наблюдаемые зависимости Н0 Нп = /{0Н\ как это следует из рис 3.3.2 б 3.3.3 б, имеют вид аналогичный кривым дисперсии, наблюдаемым вблизи полос поглощения и имеющим участки "нормальной" и "аномальной" дисперсии. Заметим, что в том же интервале углов происходит существенное увеличение затухания (ширины линии СВ-мод) (рис. 3.3.2 в 3.3.3 в), что связано с возрастанием влияния области затухания спиновой волны в слое с большим а на диссипацию энергии стоячих спиновых волн, локализованных в слое возбуждения [52]. Существенное характерное отличие обнаруженного типа дисперсии заключается в том, что она обусловлена не свойствами среды, в которой происходит возбуждение гармонической волны, а связана с состоянием приграничной области, то есть ее сущность заключается в нелокальное™ отклика среды на внешнее воздействие. Поэтому ее можно рассматривать как один из видов пространственной дисперсии спиновых волн. Сущность наблюдаемой пространственной дисперсии спиновых волн, на наш взгляд, заключается в следующем. Когда одновременно действуют диссипативный и динамический механизмы закрепления (смешанный меха |
98 (рис. 3.6 а), то особенность, аналогичная зависимостям Н0 —Нп в двухслойных пленках, наблюдалась дважды: на рис. 3.6 б для образца №4 участки 10° <0Н <35° и 55° <0Н <75°. Для всех исследованных трехслойных образцов, имеющих пересечения поля однородного резонанса в слое возбуждения с однородными полями слоев закрепления, особенности в зависимости //0 — И п проявлялись в различной степени. Наиболее ярко на зависимости /70 — Нп проявлялся тот переход одного из слоев закрепления из состояния реактивной среды в дисперсивную, при котором другой слой закрепления уже находился в состоянии дисперсивной среды. Сравнивая зависимости Н0 —Нп для образцов с различными наборами магнитных параметров слоев, можно отметить, что особенность на этих зависимостях проявляется более ярко для образцов с меньшим параметром затухания а в слое закрепления. Это объясняется меньшей величиной ширины линии в слое закрепления, а, следовательно, меньшим интервалом полей, в которых происходит переход слоя закрепления из состояния реактивной среды в дисперсивную. "Аномальное" поведение наблюдалось и на температурных зависимостях Н0 — Нп = /(Т)у в образце №2 для которого имело место пересечение температурных зависимостей полей однородного резонанса слоев возбуждения и закрепления (рис. 3.7 а,б). Плавное уменьшение разности Н0 — Нп с ростом Т обусловлено более быстрым по сравнению с намагниченностью уменьшением константы обменного взаимодействия А [114]. Необходимо отметить, что спектры СВР при различных температурах записывались для перпендикулярной ориентации И относительно пленки, когда отсутствует разориентация векторов М и Н, следовательно, исключено влияние изменения равновесной ориентации М, а также разориентации векторов М1 и Л/2 в слоях на разность резонансных полей. Заметим, что взаимное влияние пиков СВ-мод и нулевой моды слоя закрепления не могло привести к обнаруженным особенностям в поведении угловых и температурных зависимостей Н0 Ип [97]. Как показывает расчет, влияние широкого пика с малой интенсивностью от слоя закрепления на резонансное поле /7-Й СВ моды не превышает Зч-5 Оеу что существенно меньше величины вариации разности Но ~Н„ Наблюдаемые зависимости И0 —Нп = /(0Н ) или Н0 —Н„ = /(Т), как это следует из рис 3.4 б 3.7 б, имеют вид аналогичный кривым дисперсии, наблюдаемым вблизи полос поглощения и имеющим участки "нормальной" и "аномальной" дисперсии. Заметим, что в том же интервале углов происходит существенное увеличение затухания (ширины линии СВ-мод) (рис. 3.4 в 3.7 в), что связано с возрастанием влияния области затухания спиновой волны в слое с большим а на диссипацию энергии стоячих спиновых волн [50]. Существенное характерное отличие обнаруженного типа дисперсии заключается в том, что она обусловлена не свойствами среды, в которой происходит возбуждение гармонической волны, а связано с состоянием приграничной области, т.е. ее сущность заключается в нелокальности отклика среды на внешнее воздействие. Поэтому ее можно рассматривать как новый тип пространственной дисперсии спиновых волн. Сущность обнаруженной пространственной дисперсии спиновых волн, на наш взгляд, заключается в следующем. Когда одновременно действуют диссипативный и динамический механизмы закрепления (смешанный механизм) и действие диссипативного весьма существенно, экспоненциально затухающая спиновая волна в слое закрепления при любой ориентации Н возбуждается стоячей спиновой волной, локализованной в слое с малым а и, которая в свою очередь возбуждается переменным СВЧ-полем. Если слой закрепления находится в состоянии реактивной среды, собственная частота прецессии спинов в этом слое превышает частоту стоячей гармонической волны в слое возбуждения, которая равна частоте СВЧ-поля со |