Проверяемый текст
Романенко Дмитрий Николаевич. Повышение работоспособности и качества изделий из инструментальных и конструкционных материалов электрофизической и комбинированной обработками (Диссертация 2008)
[стр. 56]

Установка «ЭЛФА-541» состоит из следующих основных узлов: стойка с наносящей головкой и исполнительным механизмом следящей системы; генератор независимых импульсов «ГТ-1Б» и двух координатный рабочий стол с электроприводом.
Для закрепления на рабочем столе установки инструмента и деталей используется магнитная плита «ПМ-21» и специальные приспособления.

Рисунок 2.1 Установка «ЭЛФА-541»: а) внешний вид; б) принципиальная электрическая схема установки: ГНИ генератор независимых импульсов; НС накопительный конденсаторный блок; ДК
деталь катод на столе (1) установки; ЭА вращающийся электрод анод (2).
3 упрочняемая
верхность; 4 корпус инструмента Процесс ЭРЫ может осуществляться по двум схемам: с использованием генератора зависимых импульсов, где коммутация межэлектродного зазора осуществляется за счет вибрации анода, при этом анод совершает колебательные движения с частотой до 400 Гц, периодически контактируя с поверхностью; и как в нашем случае (рис 2.1 б) с генератором независимых импульсов.
Главное отличие метода
ЛЭНГТ от ЭИЛ заключается в том, что процесс легирования на установке «ЭЛФА-541» протекает без контакта электродов.
Для
коммугации искровых разрядов используется независимый генератор импульсов (ГНИ) рис.
2.1 б.
Необходимое расстояние между стержневым вращающимся электродом анодом (ЭА) и обрабатываемой поверхностью
56
[стр. 72]

2.2.
Электроискровое легирование и локальное электроискровое нанесение покрытий С 1950 года и по настоящее время, широкое распространение получило электроискровое легирование и его разновидность локальное электроискровое нанесение покрытий.
Процесс электроискрового легирования основан на преимущественном разрушении (эрозии) материала анода при искровом разряде.
При ЭИЛ и ЛЭНП эродированный материал в большом количестве переносится на поверхность противоположного электрода (катода).
Теория и практика данного метода хорошо отражены в монографиях [85, 86, 89-93, 103].
Локальное электроискровое нанесение покрытий ЛЭНП осуществлялось на установке «ЭЛФА-541» (рис.
2.1, а), произведенной в Болгарии, электродами из твердых сплавов, изготовленных методом порошковой металлургии, а также.электродами, изготовленными по специальной технологии [108].
Электрод из твердого сплава имеет цилиндрическую форму, диаметром 1,0...
1,55 мм, длиной 40...50 мм, зажимающийся в цангу наносящей головки.
Установка «ЭЛФА-541» состоит из следующих основных узлов: стойка с наносящей головкой и исполнительным механизмом следящей системы; генератор независимых импульсов «ГТ-1Б» и двухкоординатный рабочий стол с электроприводом.
Для закрепления на рабочем столе установки инструмента и деталей используется магнитная плита «ПМ-21» и специальные приспособления.

72

[стр.,73]

73 Рис.
2.1.
Установка «ЭЛФА-541»: а внешний вид; б принципиальная электрическая схема установки: ГНИ генератор независимых импульсов; НС накопительный конденсаторный блок; ДК
катод деталь на столе (1) установки; ЭА вращающийся электрод анод (2); 3 упрочняемая поверхность; 4корпус инструмента Процесс ЭИЛ может осуществляться по двум схемам: с использованием генератора зависимых импульсов, где коммутация межэлектродного зазора осуществляется за счет вибрации анода, при этом анод совершает колебательные движения с частотой до 400 Гц, периодически контактируя с поверхностью; и, как в нашем случае (рис 2.1, б), с генератором независимых импульсов.
Главное отличие метода
ЛЭНП от ЭИЛ заключается в том, что процесс легирования на установке «ЭЛФА 541» протекает без контакта электродов.
Для
коммутации искровых разрядов используется независимый генератор импульсов (см.
рис.
2.1, б).
Необходимое расстояние между стержневым вращающимся электродом анодом (ЭА) и обрабатываемой поверхностью
поддерживается автоматическими следящими системами.
Следящая система поддерживает межэлектродный зазор в пределах 5...30 мкм в зависимости от материала электрода.
Для улучшения качества поверхностного слоя электрод совершает, кроме вращательного, планетарное движение.
При радиусе планетарного движения, равном радиусу электрода (обычно не

[Back]