Проверяемый текст
Кузовлева, Ольга Александровна; Деформирование кольцевых осесимметричных заготовок (Диссертация 2002)
[стр. 128]

На Рис.
3.2.30 представлено распределение нормальных контактных напряжений в исследуемых процессах.
Анализ
графиков показал, что нормальные напряжения на поверхности контакта материала и пуансона при свободной осадке и при осадке заготовки на оправке распределены по поверхности пуансона практически равномерно, а при осадке кольца в контейнере эти напряжения возрастают от внешней поверхности заготовки к внутренней, увеличиваясь в 2 раза.
А при осадке в закрытую матрицу
компоненты напряжения принимают те же значения, но эпюра их распределения меняется на обратную.
поверхность поверхность Рис.
3.2.30.
Распределение нормальных контактных напряжений в исследуемых процессах:
1 осадка в контейнере; 2 осадка на оправке; 3 закрытая осадка; 4 свободная осадка
3.3 Осадка кольцевых заготовок в кольцевую матрицу Штамповка невысоких кольцевых деталей типа “втулка с фланцем” проходит по схеме осадки с двусторонним истечением материала в радиальном и осевом направлении (Рис.
3.3.1) [156].
Кинематика течения материала в ходе деформирования неоднозначна: общий объём материала заготовки идёт как на формирование ступицы втулки, так и фланца.
Это определяет сложность оценки перераспределения объёма заготовки при формировании полуфабриката.
[стр. 131]

131 Рис.
4.33.
Усилие процесса закрытой осадки Внутреняя Внешняя поверхность поверхность Рис.
4.34.
Распределение нормальных контактных напряжений в исследуемых процессах:
1 осадка в контейнере; 2 осадка на оправке; 3 закрытая осадка; 4 свободная осадка


[стр.,132]

На рис.4.34 представлено распределение нормальных контактных напряжений в исследуемых процессах.
Анализ
которого показал, что нормальные напряжения на поверхности контакта материала и пуансона при свободной осадке и при осадке заготовки на оправке распределены по поверхности пуансона практически равномерно, а при осадке кольца в контейнере эти напряжения возрастают от внешней поверхности заготовки к внутренней, увеличиваясь в 2 раза.
А при осадке в закрытую матрицу
напряжения практически имеют те же значения, но эпюра их распределения меняется на обратную.
4.4.
Основные результаты и выводы 1.
Разработаны математические модели осадки кольцевой заготовки в контейнере, на оправке и в закрытую матрицу, адекватность которых подтверждается удовлетворительным согласованием с известными экспериментальными данными.
2.
При осадке заготовки в контейнере с истечением металла внутрь установлено, что даже для малых отношений £ / Н процесс осадки идет без потери устойчивости, но сопровождается более высокими величинами напряжений в пластической области по сравнению со свободной осадкой.
При этом схема напряженного состояния достаточно жесткая во всем объеме пластической области и вероятность разрушения материала достаточно мала.
3.
Показано, что неравномерность формоизменения свободной поверхности заготовки возрастает с уменьшением диаметра и увеличением высоты заготовки.
Установлено, что технологическое усилие возрастает с увеличением диаметра заготовки, коэффициента трения и уменьшением ее высоты, однако, в диапазоне диаметров 90 110 мм и относительных высот 5 / Н 0 .3 0 .6 тех132

[стр.,133]

нологическое усилие достигает минимума при коэффициенте трения / л 0.3.
4.
При осадке заготовок на оправке показано, что устойчивое протекание процесса возможно в тех же границах, как и при свободной осадке кольцевой заготовки.
Вероятность разрушения материала в этом процессе возможна в срединной части свободной поверхности заготовки.
5.
При осадке заготовки в закрытую матрицу резко возрастает технологическое усилие, которые превышают усилие свободной осадки аналогичной заготовки в 7 раз, осадки в контейнере во внутрь в 4 раза и осадке на оправке наружу в 6 раз.
6.
Установлено, что нормальные напряжения на поверхности контакта материала и пуансона при свободной осадке и при осадке заготовки на оправке распределены по поверхности пуансона практически равномерно, а при осадке кольца в контейнере эти напряжения возрастают от внешней поверхности заготовки к внутренней, увеличиваясь в 2 раза.
При осадке в закрытую матрицу напряжения практически имеют те же значения, но эпюра их распределения меняется на обратную.
33

[Back]