126 1 2 3 4 5 I,ч Рис. 4.22. Влияние длительности сульфоцианирования на толщину карбонитридной зоны в диффузионных слоях железа (кривая 1) и железо-боридного сплава (кривая 2). Температура сульфоцианирования в обоих случаях 893 К Проведенное исследование позволяет оптимизировать процесс насыщения электролитических покрытий углеродом и азотом по температуре и по времени. В качестве оптимальной температуры сульфоцианирования нелегированного железного покрытия целесообразно принять температурный интервал 913...933 К, так как при этом наблюдается максимальное значение толщины карбонитридной зоны, которая является наиболее твердой и износостойкой структурной составляющей сульфоцианированного слоя [184]. Этот же температурный интервал можно рекомендовать и для железоборидного сплава, так как при используемых на практике длительностях сульфоцианирования 3...5 ч он обеспечивает максимальный размер карбонитридной зоны. Длительность сульфоцианирования должна быть не более пяти часов, так |
245 1 2 3 4 5 I,ч Рис. 5.20. Влияние длительности цианирования на толщину карбонитридной зоны в диффузионных слоях железа (кривая I) и железо-молибденового сплава (кривая 2). Температура цианирования в обоих случаях 893 К Проведенное исследование позволяет оптимизировать процесс насыщения электролитических покрытий углеродом и азотом по температуре и по времени. В качестве оптимальной температуры нитроцементации нелегированного железного покрытия целесообразно принять температурный интервал 913...933 К, так как при этом наблюдается максимальное значение толщины карбонитридной зоны, которая является наиболее твердой и износостойкой структурной составляющей цианированного слоя [184]. Этот же температурный интервал можно рекомендовать и для железо-молибденового сплава, так как при используемых на практике длительностях цианирования 3...5 ч он обеспечивает максимальный размер карбонитридной зоны. Длительность цианирования должна быть не более пяти часов, так как # большая выдержка в планирующей среде приводит к весьма незначительному приросту толщины диффузионного слоя и неэффективна. Таким образом, для исследованных электролитических покрытий опта |